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2025高功率脈沖磁控濺射技術(shù)與應(yīng)用專題會(huì)議

重要提示:會(huì)議信息包含但不限于舉辦時(shí)間,場(chǎng)地,出席人員等可能會(huì)隨著時(shí)間發(fā)生變化,報(bào)名參會(huì)或溝通合作請(qǐng)先聯(lián)系主辦方確認(rèn)。如果您發(fā)現(xiàn)會(huì)議信息不是最新版,可以通過(guò)主辦方郵箱將包含最新會(huì)議信息的鏈接或文件通過(guò)郵箱發(fā)送至support@huiyi-123.com,審核人員將會(huì)盡快為您更新到最新版本。
會(huì)議時(shí)間:2025-06-20 ~ 2025-06-22
舉辦場(chǎng)地:蘭州市 導(dǎo)航
主辦單位:中國(guó)機(jī)械工程學(xué)會(huì)表面工程分會(huì) 更多會(huì)議
大會(huì)主席:領(lǐng)域?qū)<?/span>
會(huì)議介紹

中國(guó)機(jī)械工程學(xué)會(huì)表面工程分會(huì)作為全國(guó)性的學(xué)術(shù)組織,于2017年提出在國(guó)內(nèi)舉辦高功率脈沖磁控濺射技術(shù)與應(yīng)用專題研討會(huì),并連續(xù)在上海、蘭州、深圳和重慶成功舉辦四屆,交流報(bào)告數(shù)量和質(zhì)量顯著提升,交流內(nèi)容涉及高功率脈沖磁控濺射過(guò)程中電子與離子的相互作用,深振蕩、中頻疊加等電源與陰極靶結(jié)構(gòu)協(xié)同控制等基礎(chǔ)研究,工藝參數(shù)對(duì)膜層性能的影響、工業(yè)化存在的主要問(wèn)題及對(duì)策等。定于2025年6月20-22日在蘭州召開(kāi)“2025高功率脈沖磁控濺射技術(shù)與應(yīng)用會(huì)議”。本次具有技術(shù)前瞻性的專題會(huì)議重回蘭州召開(kāi),也將推動(dòng)當(dāng)?shù)乇∧ぜ夹g(shù)的進(jìn)一步發(fā)展。熱忱歡迎國(guó)內(nèi)外從事薄膜技術(shù)研究與應(yīng)用的科技工作者參會(huì),同時(shí),也歡迎有意推動(dòng)我國(guó)薄膜技術(shù)發(fā)展的企業(yè)參加會(huì)議和提供支持!

以高功率脈沖磁控濺射技術(shù)(HiPIMS)為代表的高離化磁控濺射技術(shù)作為一種新的物理氣相沉積技術(shù),可以明顯提高薄膜結(jié)構(gòu)可控性,進(jìn)而獲得優(yōu)異的薄膜性能,在國(guó)內(nèi)外研究領(lǐng)域和工業(yè)界受到了廣泛關(guān)注和重視。為推動(dòng)該技術(shù)的進(jìn)步,國(guó)際上已經(jīng)形成了HiPIMS Today等一系列的國(guó)際會(huì)議對(duì)該技術(shù)放電機(jī)理、脈沖形式、等離子體輸運(yùn)與診斷、以及薄膜/涂層沉積與應(yīng)用等多個(gè)方面進(jìn)行專題研討,為其發(fā)展與應(yīng)用帶來(lái)了蓬勃?jiǎng)恿Γ?/p>

以下內(nèi)容為GPT視角對(duì)高功率脈沖磁控濺射技術(shù)與應(yīng)用專題會(huì)議相關(guān)領(lǐng)域的研究解讀,僅供參考:

高功率脈沖磁控濺射技術(shù)與應(yīng)用研究現(xiàn)狀

技術(shù)特點(diǎn)

HiPIMS 技術(shù)是在傳統(tǒng)磁控濺射基礎(chǔ)上施加高功率脈沖電源,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)濺射過(guò)程的精確控制。其主要特點(diǎn)包括:

高離化率:HiPIMS 技術(shù)能夠?qū)R射粒子的離化率提高至 50%以上,甚至高達(dá) 70%,這使得沉積的薄膜具有更高的密度、更好的附著力和更優(yōu)異的結(jié)晶質(zhì)量。

減少薄膜缺陷:HiPIMS 技術(shù)能夠有效減少大顆粒的產(chǎn)生,降低薄膜表面的缺陷,從而提高薄膜的均勻性和光學(xué)性能。

工藝靈活性:通過(guò)調(diào)整脈沖參數(shù),如脈沖寬度、頻率和峰值功率,HiPIMS 技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜成分、結(jié)構(gòu)和性能的調(diào)控,為制備復(fù)雜材料體系和多功能薄膜提供了可能。

應(yīng)用現(xiàn)狀

HiPIMS 技術(shù)因其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì),在多個(gè)領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用:

光學(xué)領(lǐng)域:HiPIMS 技術(shù)被廣泛用于制備高性能的光學(xué)薄膜,如增透膜、反射膜和濾光膜等。這些薄膜在光學(xué)儀器、顯示器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域具有重要作用。

電子領(lǐng)域:HiPIMS 技術(shù)可用于制備半導(dǎo)體器件、傳感器和存儲(chǔ)器等關(guān)鍵部件,提高電子設(shè)備的性能、功能、效率和美觀。

能源領(lǐng)域:太陽(yáng)能電池板和其他發(fā)電應(yīng)用可以從 HiPIMS 技術(shù)中受益。例如,通過(guò)制備高質(zhì)量、高穩(wěn)定性的薄膜,HiPIMS 技術(shù)可以提高太陽(yáng)能電池的光電轉(zhuǎn)換效率和耐久性。

工具鍍膜領(lǐng)域:HiPIMS 技術(shù)可用于制備硬質(zhì)涂層、抗黏附涂層、耐磨涂層等,如 TiN、TiCN、CrN 等涂層,顯著提高工具的耐磨性、抗黏附性和使用壽命。

航空航天和汽車制造領(lǐng)域:HiPIMS 技術(shù)在航空航天和汽車制造等領(lǐng)域也展現(xiàn)出了廣闊的應(yīng)用前景,如用于制備高性能的涂層材料,提高部件的耐腐蝕性和耐候性。

研究現(xiàn)狀

目前,HiPIMS 技術(shù)的研究主要集中在以下幾個(gè)方面:

技術(shù)改進(jìn):針對(duì) HiPIMS 技術(shù)存在的沉積速率低、涂層應(yīng)力高等問(wèn)題,研究人員正在通過(guò)波形疊加及同步偏壓、增加輔助裝置等方式進(jìn)行技術(shù)改進(jìn),以提高涂層沉積效率和性能。

復(fù)合技術(shù):研究人員正在探索將 HiPIMS 技術(shù)與其他濺射和電弧技術(shù)(如直流磁控濺射、射頻磁控濺射、中頻磁控濺射和電弧離子鍍等)進(jìn)行復(fù)合,以提升涂層沉積效率和性能。

新材料開(kāi)發(fā):隨著對(duì)材料性能要求的不斷提高,研究人員正在利用 HiPIMS 技術(shù)開(kāi)發(fā)新型涂層材料,以滿足不同領(lǐng)域的需求。

工藝優(yōu)化:通過(guò)對(duì) HiPIMS 技術(shù)的工藝參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化,如脈沖寬度、頻率、峰值功率等,研究人員正在探索如何進(jìn)一步提高薄膜的質(zhì)量和性能。

高功率脈沖磁控濺射技術(shù)與應(yīng)用研究可以應(yīng)用在哪些行業(yè)或產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域

電子領(lǐng)域

HiPIMS技術(shù)可用于提高電子設(shè)備的性能、功能、效率和美觀。例如,在半導(dǎo)體器件、傳感器和存儲(chǔ)器等關(guān)鍵部件的制備中,HiPIMS技術(shù)能夠沉積出高質(zhì)量、高穩(wěn)定性的薄膜,從而提升電子設(shè)備的整體性能。

光學(xué)領(lǐng)域

HiPIMS技術(shù)被廣泛用于制備高性能的光學(xué)薄膜,如增透膜、反射膜和濾光膜等。這些薄膜在光學(xué)儀器、顯示器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域具有重要作用,能夠提升光學(xué)設(shè)備的性能和效率。

能源領(lǐng)域

太陽(yáng)能電池板和其他發(fā)電應(yīng)用可以從HiPIMS技術(shù)中受益。通過(guò)制備高質(zhì)量、高穩(wěn)定性的薄膜,HiPIMS技術(shù)可以提高太陽(yáng)能電池的光電轉(zhuǎn)換效率和耐久性,從而推動(dòng)能源產(chǎn)業(yè)的可持續(xù)發(fā)展。

航空航天和運(yùn)輸領(lǐng)域

HiPIMS技術(shù)在航空航天和運(yùn)輸領(lǐng)域也有重要應(yīng)用。例如,在飛機(jī)、火箭等航空航天器的表面涂層制備中,HiPIMS技術(shù)能夠沉積出具有優(yōu)異耐磨性、耐腐蝕性和耐高溫性能的涂層,從而延長(zhǎng)航空航天器的使用壽命。

工具鍍膜領(lǐng)域

HiPIMS技術(shù)可用于制備硬質(zhì)涂層、抗黏附涂層、耐磨涂層等,如TiN、TiCN、CrN等涂層。這些涂層能夠顯著提高工具的耐磨性、抗黏附性和使用壽命,從而廣泛應(yīng)用于刀具、模具等工具的表面處理。

其他領(lǐng)域

除了上述領(lǐng)域外,HiPIMS技術(shù)還可以應(yīng)用于食品包裝、珠寶、生物醫(yī)學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域。例如,在食品包裝領(lǐng)域,HiPIMS技術(shù)可以沉積出具有優(yōu)異阻隔性能的薄膜,從而延長(zhǎng)食品的保質(zhì)期;在珠寶領(lǐng)域,HiPIMS技術(shù)可以沉積出具有美觀色澤和耐磨性能的涂層,從而提升珠寶的品質(zhì)和價(jià)值。

高功率脈沖磁控濺射技術(shù)與應(yīng)用領(lǐng)域有哪些知名研究機(jī)構(gòu)或企業(yè)品牌

研究機(jī)構(gòu)

中國(guó)科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所:該所的碳基薄膜材料技術(shù)團(tuán)隊(duì)在高功率脈沖磁控濺射涂層裝備研制、等離子體放電分析、涂層應(yīng)用驗(yàn)證等方面開(kāi)展了深入細(xì)致的研究,并取得了顯著成果。

哈爾濱工業(yè)大學(xué):在高功率脈沖磁控濺射技術(shù)方面也有深入的研究,并與多家企業(yè)和研究機(jī)構(gòu)合作,推動(dòng)該技術(shù)的發(fā)展和應(yīng)用。

北京大學(xué)深圳研究生院:曾主辦過(guò)關(guān)于高功率脈沖磁控濺射技術(shù)與應(yīng)用專題的會(huì)議,匯聚了眾多專家學(xué)者共同探討該技術(shù)的發(fā)展與未來(lái)。

企業(yè)品牌

Dah Young:作為全球知名的大型咨詢機(jī)構(gòu),Dah Young在高功率脈沖磁控濺射(HiPIMS)鍍膜機(jī)行業(yè)具有重要地位。

CemeCon AG:該企業(yè)也是高功率脈沖磁控濺射技術(shù)領(lǐng)域的重要參與者,其產(chǎn)品和服務(wù)在市場(chǎng)上享有較高聲譽(yù)。

Nanovak:專注于高功率脈沖磁控濺射技術(shù)的研發(fā)和應(yīng)用,為客戶提供高質(zhì)量的鍍膜解決方案。

Platit:在高功率脈沖磁控濺射技術(shù)領(lǐng)域擁有先進(jìn)的技術(shù)和豐富的經(jīng)驗(yàn),其產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于多個(gè)行業(yè)。

廣東匯成真空科技:國(guó)內(nèi)知名的真空鍍膜設(shè)備制造商,在高功率脈沖磁控濺射技術(shù)方面也有深入的研究和應(yīng)用。

北京丹普表面技術(shù):專注于表面處理技術(shù)的研究和應(yīng)用,包括高功率脈沖磁控濺射技術(shù)。

福州克雷斯試驗(yàn)設(shè)備:提供高功率脈沖磁控濺射相關(guān)的試驗(yàn)設(shè)備和解決方案。

此外,還有深圳市英能電氣有限公司、唐山標(biāo)先電子有限公司等企業(yè),在高功率脈沖磁控濺射電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售方面也具有較高的知名度和市場(chǎng)份額。

高功率脈沖磁控濺射技術(shù)與應(yīng)用領(lǐng)域有哪些招聘崗位或就業(yè)機(jī)會(huì)

研發(fā)類崗位

高級(jí)研發(fā)工程師:負(fù)責(zé)HiPIMS技術(shù)的研發(fā)、改進(jìn)和優(yōu)化,以及新材料的開(kāi)發(fā)和應(yīng)用。

工藝研發(fā)工程師:專注于HiPIMS工藝的研發(fā)和優(yōu)化,提高薄膜的質(zhì)量和性能。

材料研發(fā)工程師:研究新型材料在HiPIMS技術(shù)中的應(yīng)用,開(kāi)發(fā)具有特定性能的薄膜材料。

生產(chǎn)類崗位

生產(chǎn)工程師:負(fù)責(zé)HiPIMS設(shè)備的生產(chǎn)、調(diào)試和維護(hù),確保生產(chǎn)流程的順暢進(jìn)行。

機(jī)械加工工程師:參與HiPIMS設(shè)備的機(jī)械加工和制造,確保設(shè)備的精度和性能。

中試生產(chǎn)技術(shù)工程師:負(fù)責(zé)HiPIMS技術(shù)的中試生產(chǎn),驗(yàn)證工藝的穩(wěn)定性和可靠性。

銷售與市場(chǎng)類崗位

市場(chǎng)推廣專員:負(fù)責(zé)HiPIMS技術(shù)和產(chǎn)品的市場(chǎng)推廣,拓展客戶群體。

銷售經(jīng)理:制定銷售策略,管理銷售團(tuán)隊(duì),實(shí)現(xiàn)銷售目標(biāo)。

國(guó)際銷售助理/國(guó)內(nèi)銷售助理:協(xié)助銷售經(jīng)理進(jìn)行銷售支持,處理客戶訂單和售后服務(wù)。

技術(shù)支持與服務(wù)類崗位

技術(shù)支持工程師:為客戶提供HiPIMS技術(shù)的技術(shù)支持和解決方案。

售后服務(wù)工程師:負(fù)責(zé)HiPIMS設(shè)備的售后服務(wù),解決客戶在使用過(guò)程中遇到的問(wèn)題。

其他相關(guān)崗位

財(cái)務(wù)管理:負(fù)責(zé)HiPIMS技術(shù)相關(guān)項(xiàng)目的財(cái)務(wù)管理和預(yù)算控制。

人事行政專員:負(fù)責(zé)HiPIMS技術(shù)團(tuán)隊(duì)的人力資源管理和行政事務(wù)。

精密設(shè)備運(yùn)維技術(shù)工程師:負(fù)責(zé)HiPIMS設(shè)備的精密運(yùn)維,確保設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行。

會(huì)議日程
2025年6月20日 - 會(huì)議注冊(cè)報(bào)到
2025年6月21日 - 全體報(bào)告和專題討論
2025年6月22日 - 交流返程
聯(lián)系方式

中國(guó)機(jī)械工程學(xué)會(huì)表面工程分會(huì)

聯(lián)系人:

段金弟 13971036507 蔣超 18971299299

西北師范大學(xué)

聯(lián)系人:

李文生 13919250687 趙雲(yún)15294201657

參會(huì)企業(yè)
承辦單位 - 西北師范大學(xué)
承辦單位 - 蘭州資源環(huán)境職業(yè)技術(shù)大學(xué)
支持單位 - 大連理工大學(xué)
支持單位 - 哈爾濱工業(yè)大學(xué)
支持單位 - 中國(guó)機(jī)械總院集團(tuán)武漢材料保護(hù)研究所有限公司
支持單位 - 北京大學(xué)深圳研究生院
支持單位 - 中國(guó)科學(xué)院蘭州化學(xué)物理研究所
支持單位 - 中國(guó)科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所
支持單位 - 蘭州空間技術(shù)物理研究所
支持單位 - 特種材料表面工程全國(guó)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室
協(xié)辦和贊助單位 - 沈陽(yáng)樂(lè)貝真空技術(shù)有限公司
支持媒體 - 表面工程在線
支持媒體 - 《中國(guó)表面工程》
支持媒體 - 《表面技術(shù)》
支持媒體 - 《材料保護(hù)》
支持媒體 - 《表面工程與再制造》
參會(huì)事項(xiàng)

【報(bào)告征集】

為進(jìn)一步擴(kuò)大會(huì)議影響,本次專題會(huì)議面向社會(huì)征集演講報(bào)告,范圍包括:

1、等離子體放電與診斷;

2、濺射靶材與工藝;

3、先進(jìn)涂層與薄膜技術(shù);

4、hipims電源與裝備;

5、hipims涂層的應(yīng)用與發(fā)展趨勢(shì)等。

歡迎行業(yè)從業(yè)人員從技術(shù)應(yīng)用層面出發(fā)積極參與交流,踴躍投稿。

截止時(shí)間:2025年5月30日(登錄官網(wǎng)注冊(cè)提交,額滿即止)

【會(huì)議注冊(cè)及住宿】

會(huì)議注冊(cè)費(fèi):

(1)表面工程分會(huì)委員 1000元/人;

(2)6月10日(含)前注冊(cè) 正式代表1000元/人,學(xué)生代表800元/人(憑學(xué)生證);

(3)6月10日后及現(xiàn)場(chǎng)注冊(cè) 正式代表1200元/人,學(xué)生代表900元/人(憑學(xué)生證)。

住宿:待定

統(tǒng)一安排餐食,住宿費(fèi)用自理。注冊(cè)、繳費(fèi)、提交報(bào)告請(qǐng)?jiān)L問(wèn)會(huì)議官網(wǎng):https://meeting.cmes.org/?sid=1433&mid=358&v=100

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